Информационные партнёры

Президент РФПравительство РФ Минпромторг

STE35 Трехкамерная установка молекулярно-лучевой эпитаксии для роста традиционных полупроводниковых материалов A3B5

STE35 представляет собой современную технологическую платформу для прецизионного выращивания эпитаксиальных слоев на подложках диаметром до 100 мм, а также трех подложках диаметром 2” в одном процессе.Областью применения установки МЛЭ STE35 являются фундаментальные и прикладные научные исследования, опытно-конструкторские работы и мелкосерийное эксперименталь ное производство эпитаксиальных структур в режиме “lab to fab” в системах материалов InAlGaAsSb/GaAs или II-VI.Отличительной чертой конструкции является возможность корректировки ростовой геометрии в заметных пределах за счет значительного вертикального перемещения ростового манипулятора. Это позволяет совместить в одной камере два рабочих ростовых положения: исследовательское, в котором может проводиться рост без вращения держателя подложки, с активным использованием дифракции быстрых электронов, и обеспечением приемлемой однородности эпитаксиальной пленки, а также «производственное», при котором рост осуществляется с вращением и обеспечивается высокая однородность на больших диаметрах подложки. 

Предприятие:

Тип продукции:

Основные параметры и эксплуатационные характеристики: 

Базовая конфигурация:• ростовая камера с вертикальной ростовой геометрией, откачка ростовой камеры обеспечивается ионным насосом, криопанелью и сублимационным насосом• 8 портов для установки источников материалов, с заслонками, два дополнительных порта, без заслонок, для вентильных источников• единая азотная криопанель большой площади, эффективно окружающая ростовой объем• ростовой манипулятор с нагревательным элементом PBN/PG/PBN• комплект источников материалов — эффузионных ячеек в количестве 7 шт., а также вентильный источник V-й группы• комплект аналитического оборудования (RHEED, пирометр, масс-спектрометр)• камера подготовки с накопителем держателей и узлом нагрева подложки• шлюзовая камера с накопителем держателей подложки до 8 позиций и фланцем быстрой загрузки, оборудованным боксом инертной атмосферы• комплект держателей подложки• система измерения предварительного и сверхвысокого вакуума• система прогрева камер до 200°С без образования «горячих точек»• комплект управляющей электроники• система автоматизированного управления процессом эпитаксиального роста 

Предприятие разработчик: 
ЗАО "НТО"
Предприятие изготовитель: 
ЗАО "НТО"
Предприятие калькодержатель: 
ЗАО "НТО"
Срок изготовления: 
8 месяцев
Присутствует в Перечне ЭКБ: 
0

Состояние производства:

© 2019 МНИИРИП. Все права защищены.

Разработка сайта: OXiTON