Информационные партнёры

Президент РФПравительство РФ Минпромторг

STE EB71 Автоматизированная станция электронно-лучевого напыления высококачественных тонкопленочных композиций в сверхвысоком вакууме

Установка разрабатывалась в идеологии “lab to fab” и ориентирована как на интенсивные исследования
и разработки, так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. В конструкцию также заложена возможность комплексирования и встраивания в состав роботизованных вакуумно-технологических кластерных систем.
Максимальное количество напыляемых пластин в одном процессе 3х3” или 6х2”, которые устанавливаются на держателе со сферическим профилем, учитывающим особенности процесса “lift-off”.

Предприятие:

Тип продукции:

Основные параметры и эксплуатационные характеристики: 

Основные преимущества:• рабочая камера из нержавеющей стали с уплотнениями типа ConFlat, с интегрированным водяным охлаждением стенок, а также безмаслянной системой откачки на основе производительного ионного насоса 500 л/с• водяной экран для предотвращения запыления камеры распыляемыми материалами, а также для облегчения сбора и утилизации продуктов распыления• конструкция установки положительно зарекомендовала себя при апробации в циклах разработки и производства приборов СВЧ микроэлектроники• неоднородность толщины наносимого материала менее ± 2% на диаметре держателя пластин (wafer holder) до 180 мм при использовании специально разработанной технологии «маски»• возможность оптимизации расхода материла за счет изменения расстояния подложка-испаритель, в частности, расход золота составляет 3-4 г/мкм при скорости напыления 5 Å/сек и расстоянии испаритель-подложка 250 мм 

Предприятие разработчик: 
з
Присутствует в Перечне ЭКБ: 
0

Состояние производства:

© 2019 МНИИРИП. Все права защищены.

Разработка сайта: OXiTON